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  • 25
    2024-12

    光刻機詳解

    光刻機是半導體制造過程中至關重要的設備之一,主要用于將微小的電路圖案從光掩模轉移到硅片上的光刻膠層中,從而形成集成電路(IC)的結構。光刻技術是半導體 ...

  • 25
    2024-12

    mems光刻機

    MEMS光刻機(Micro-Electro-Mechanical Systems Lithography Machine)是用于制造微機電系統(tǒng)(MEM ...

  • 25
    2024-12

    7納米的光刻機

    隨著半導體技術不斷向更小的工藝節(jié)點發(fā)展,7納米(nm)制程成為當前主流的先進制造技術之一。為了滿足7納米及以下制程節(jié)點的需求,光刻機作為半導體制造過程 ...

  • 24
    2024-12

    光刻機封裝

    光刻機封裝(Lithography Machine Packaging)是指在半導體制造過程中,光刻機內部各個組件的保護、連接和密封技術。1. 光刻機 ...

  • 24
    2024-12

    光刻機的光源

    光刻機的光源是半導體制造過程中至關重要的組成部分,直接影響到圖案轉移的分辨率和制造精度。光刻技術通過將芯片設計圖案從光掩模投射到硅片上的光刻膠層中,而 ...

  • 24
    2024-12

    duv光刻機制程

    DUV光刻機(Deep Ultraviolet Lithography) 是一種使用深紫外光源的光刻技術,在半導體制造中廣泛應用于芯片生產的不同工藝節(jié) ...

  • 23
    2024-12

    微米光刻機

    微米光刻機(Micron Lithography Machine)是用于微米級別集成電路(IC)和微納米結構制造的精密設備。隨著半導體制造工藝的不斷進 ...

  • 23
    2024-12

    immersion光刻機

    浸沒式光刻機(Immersion Lithography Machine) 是一種利用液體介質來提高光刻分辨率的光刻技術。它是在傳統(tǒng)的干式光刻技術基礎 ...

  • 23
    2024-12

    nxt1980di光刻機

    NXT 1980DI光刻機 是由荷蘭ASML公司生產的先進光刻設備,屬于其NXT系列中的一款浸沒式光刻機(Immersion Lithography ...

  • 22
    2024-12

    光電光刻機

    光電光刻機(Optoelectronic Lithography Machine)是一種結合了光學和電子學技術的光刻設備,廣泛應用于半導體、微電子、光 ...

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