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2024-07
euv光刻機(jī)
極紫外光刻機(jī)（Extreme Ultraviolet Lithography，EUV光刻機(jī)）是一種高度先進(jìn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)，用于創(chuàng)建超小尺寸的集成 ...
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2024-07
上海微電子28nm光刻機(jī)
光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造的核心設(shè)備，對(duì)于芯片制造的成功至關(guān)重要。上海微電子在中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中扮演著重要的角色，其28納米光刻技術(shù)標(biāo)志著中國(guó)在微電子領(lǐng)域 ...
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2024-07
光刻機(jī)：微影技術(shù)的藝術(shù)與科技結(jié)晶
光刻機(jī)是當(dāng)今半導(dǎo)體制造領(lǐng)域中不可或缺的先進(jìn)設(shè)備，扮演著微電子器件制造的重要角色。作為一種精密的微影技術(shù)，光刻機(jī)廣泛應(yīng)用于集成電路制造、光學(xué)器件制備 ...