光刻機(jī)是芯片制造過程中最核心的設(shè)備之一，被譽(yù)為現(xiàn)代工業(yè)皇冠上的明珠。全球只有少數(shù)幾家企業(yè)具備光刻機(jī)的研發(fā)與生產(chǎn)能力，它們?cè)谑袌?chǎng)上形成了相對(duì)壟斷的格局。
1. 全球主要光刻機(jī)生產(chǎn)廠商
目前，全球光刻機(jī)市場(chǎng)主要由三大廠商主導(dǎo)：荷蘭ASML、日本尼康（Nikon）和佳能（Canon）。
（1）ASML（阿斯麥）——全球光刻機(jī)霸主
國(guó)家： 荷蘭
市場(chǎng)份額： 約90%（高端市場(chǎng)幾乎100%）
產(chǎn)品系列：
EUV光刻機(jī)（極紫外，Extreme Ultraviolet）：適用于7nm、5nm、3nm及以下先進(jìn)工藝。
DUV光刻機(jī)（深紫外，Deep Ultraviolet）：包括ArFi（浸沒式）、ArF（干式）、KrF等，適用于28nm及以上制程。
ASML是全球唯一能夠生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的公司，其EUV設(shè)備是臺(tái)積電、三星、英特爾等芯片巨頭實(shí)現(xiàn)先進(jìn)制程的必備工具。由于EUV光刻機(jī)的高技術(shù)壁壘，ASML在該領(lǐng)域幾乎處于壟斷地位。近年來，該公司正在研發(fā)新一代High-NA EUV光刻機(jī)，用于2nm及以下工藝。
（2）尼康（Nikon）——日本光刻機(jī)巨頭
國(guó)家： 日本
市場(chǎng)份額： 約7%
產(chǎn)品系列：
DUV光刻機(jī)（ArFi、ArF、KrF）：適用于28nm及以上工藝節(jié)點(diǎn)。
FPD光刻機(jī)（平板顯示）：主要用于LCD、OLED等顯示面板生產(chǎn)。
尼康曾在光刻機(jī)市場(chǎng)占據(jù)重要地位，20世紀(jì)90年代曾是全球最大的光刻機(jī)供應(yīng)商之一。然而，隨著ASML在EUV領(lǐng)域的崛起，尼康的市場(chǎng)份額逐漸下降，目前主要專注于DUV光刻機(jī)和FPD光刻機(jī)領(lǐng)域。近年來，尼康試圖在EUV光刻機(jī)市場(chǎng)重新發(fā)力，但尚未取得突破性進(jìn)展。
（3）佳能（Canon）——成熟工藝市場(chǎng)的主力
國(guó)家： 日本
市場(chǎng)份額： 約3%
產(chǎn)品系列：
KrF光刻機(jī)（適用于90nm及以上）
i-line光刻機(jī)（適用于成熟制程，如MEMS、功率半導(dǎo)體等）
納米壓印光刻機(jī)（NIL）
佳能的光刻機(jī)主要面向成熟工藝市場(chǎng)，如汽車芯片、功率器件、模擬芯片等領(lǐng)域。由于佳能缺乏EUV技術(shù)，其市場(chǎng)份額主要集中在中低端市場(chǎng)。然而，該公司正在推進(jìn)納米壓印光刻機(jī)（NIL），希望在下一代芯片制造技術(shù)中占據(jù)一席之地。
2. 光刻機(jī)生產(chǎn)的挑戰(zhàn)
（1）技術(shù)門檻高
光刻機(jī)是全球最復(fù)雜的制造設(shè)備之一，一臺(tái)EUV光刻機(jī)包含超過10萬個(gè)精密零部件，需要全球最先進(jìn)的精密光學(xué)、機(jī)械、電子和軟件技術(shù)。目前，只有ASML能夠生產(chǎn)EUV光刻機(jī)，而DUV光刻機(jī)的制造也只有少數(shù)幾家企業(yè)能掌握。
（2）供應(yīng)鏈依賴
光刻機(jī)的核心零部件供應(yīng)鏈高度依賴特定企業(yè)：
光源：EUV光源由美國(guó)Cymer（ASML子公司）供應(yīng)。
光學(xué)系統(tǒng)：DUV光學(xué)系統(tǒng)由日本尼康和德國(guó)蔡司提供，EUV光學(xué)系統(tǒng)完全由蔡司供應(yīng)。
精密運(yùn)動(dòng)控制：荷蘭ASML、德國(guó)蔡司、日本尼康等公司掌握核心技術(shù)。
這些供應(yīng)鏈的復(fù)雜性使得新進(jìn)入者難以快速突破市場(chǎng)。
3. 光刻機(jī)生產(chǎn)廠的未來趨勢(shì)
（1）EUV光刻機(jī)的持續(xù)升級(jí)
ASML正在開發(fā)High-NA EUV光刻機(jī)，該設(shè)備的數(shù)值孔徑（NA）從0.33提升至0.55，分辨率提高至2nm以下，將用于未來的1.4nm及更先進(jìn)制程。預(yù)計(jì)第一批High-NA EUV設(shè)備將在2025年前后交付。
（2）成熟制程市場(chǎng)的穩(wěn)定增長(zhǎng)
盡管EUV光刻機(jī)吸引了大量關(guān)注，但28nm及以上的成熟工藝仍然是市場(chǎng)的主流。尼康、佳能和上海微電子等廠商將在這一市場(chǎng)持續(xù)競(jìng)爭(zhēng)。
4. 總結(jié)
光刻機(jī)的生產(chǎn)高度集中，全球市場(chǎng)主要由荷蘭ASML、日本尼康和佳能主導(dǎo)。ASML在高端市場(chǎng)占據(jù)絕對(duì)領(lǐng)先地位，而尼康和佳能主要供應(yīng)成熟工藝光刻機(jī)。
光刻機(jī)生產(chǎn)廠的未來趨勢(shì)包括EUV光刻機(jī)的持續(xù)升級(jí)、成熟工藝市場(chǎng)的穩(wěn)定增長(zhǎng)以及國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的崛起。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的進(jìn)步，光刻機(jī)行業(yè)仍將保持高速發(fā)展，成為全球科技競(jìng)爭(zhēng)的重要領(lǐng)域之一。
