光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造過程中最重要的設(shè)備之一，其銷量直接影響全球芯片產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。近年來，隨著半導(dǎo)體市場的快速增長，全球光刻機(jī)銷量穩(wěn)步上升。尤其是先進(jìn)工藝（如5nm、3nm及以下）對高端光刻機(jī)的需求不斷增加，使得EUV（極紫外）光刻機(jī)成為市場關(guān)注的焦點(diǎn)。

1. 全球光刻機(jī)銷量趨勢

近年來，全球光刻機(jī)銷量持續(xù)增長，主要受智能手機(jī)、數(shù)據(jù)中心、人工智能、物聯(lián)網(wǎng)、自動駕駛等技術(shù)需求的推動。2016年全球光刻機(jī)銷量約為245臺，而到2022年增長至510臺，年均復(fù)合增長率達(dá)到約13%。2023年，全球半導(dǎo)體IC光刻機(jī)總出貨量達(dá)到了681臺，創(chuàng)下歷史新高。

這一增長趨勢反映出全球半導(dǎo)體行業(yè)的不斷擴(kuò)張。各大芯片制造商，包括臺積電（TSMC）、三星（Samsung）、英特爾（Intel）等，都在積極擴(kuò)建先進(jìn)制程工廠，對高端光刻機(jī)的需求持續(xù)增加。此外，全球多國推動半導(dǎo)體自主化，也進(jìn)一步促進(jìn)了光刻機(jī)銷量的增長。

2. 主要光刻機(jī)廠商市場份額

目前，全球光刻機(jī)市場主要由三家制造商主導(dǎo)：荷蘭的ASML、日本的尼康（Nikon）和佳能（Canon）。其中，ASML占據(jù)高端市場的主導(dǎo)地位，而尼康和佳能則主要供應(yīng)中低端光刻機(jī)。

（1）ASML：全球光刻機(jī)市場的霸主

ASML是目前全球唯一能夠生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的公司，其市場份額在高端光刻機(jī)領(lǐng)域接近100%。該公司每年出貨約40~50臺EUV光刻機(jī)，價格高達(dá)1.5億至2億美元/臺，成為推動公司收入增長的關(guān)鍵因素。此外，ASML在DUV（深紫外）光刻機(jī)領(lǐng)域也占據(jù)較大市場份額，尤其是在ArFi（浸沒式）和ArF（干式）光刻機(jī)方面，廣泛應(yīng)用于7nm及以上的芯片制造。

（2）尼康和佳能：中低端市場的主要供應(yīng)商

尼康和佳能主要供應(yīng)KrF和i-line光刻機(jī)，這些設(shè)備適用于成熟工藝節(jié)點(diǎn)，如28nm及以上的芯片制造。近年來，尼康也在嘗試進(jìn)入高端光刻市場，但由于EUV技術(shù)門檻極高，仍難以與ASML競爭。

3. 光刻機(jī)銷量的產(chǎn)品結(jié)構(gòu)

光刻機(jī)按技術(shù)類型可分為EUV、ArFi、ArF、KrF和i-line等。當(dāng)前，全球光刻機(jī)市場仍以中低端設(shè)備為主，但高端EUV光刻機(jī)的銷售額占比最高。

KrF光刻機(jī)（37.9%）：主要用于90nm及以上制程，廣泛應(yīng)用于顯示面板、功率半導(dǎo)體等領(lǐng)域。

i-line光刻機(jī)（33.6%）：適用于成熟工藝，如微控制器、MEMS、模擬芯片等。

ArFi（15.4%）：主要用于7nm至28nm制程，是目前DUV光刻機(jī)中最先進(jìn)的型號。

ArF干式（5.8%）：適用于28nm以上工藝節(jié)點(diǎn)，與ArFi類似，但不采用浸沒技術(shù)。

EUV（7.3%）：用于5nm及以下的先進(jìn)制程，是目前最先進(jìn)的光刻技術(shù)，單臺設(shè)備價值高，市場需求強(qiáng)勁。

盡管EUV光刻機(jī)的銷量占比較低，但其市場價值遠(yuǎn)高于其他類型。隨著芯片工藝向3nm、2nm演進(jìn)，EUV光刻機(jī)的需求將繼續(xù)增長。

4. 光刻機(jī)市場的未來趨勢

（1）高端光刻機(jī)需求持續(xù)增長

隨著人工智能、大數(shù)據(jù)、5G等領(lǐng)域?qū)Ω咝阅苄酒男枨笤黾樱珽UV光刻機(jī)的銷量預(yù)計將繼續(xù)上升。ASML計劃在未來推出高數(shù)值孔徑（High-NA）EUV光刻機(jī)，以滿足2nm及以下制程的需求。這類設(shè)備的價格預(yù)計將進(jìn)一步上升，單臺可能超過3億美元。

（2）成熟工藝光刻機(jī)市場穩(wěn)定增長

盡管先進(jìn)制程需求旺盛，但成熟工藝（如28nm及以上）仍在許多領(lǐng)域占據(jù)主導(dǎo)地位，例如汽車芯片、功率半導(dǎo)體、傳感器等。KrF和i-line光刻機(jī)的銷量預(yù)計仍將保持穩(wěn)定增長。

（3）光刻機(jī)供應(yīng)鏈格局變化

全球半導(dǎo)體供應(yīng)鏈正在經(jīng)歷調(diào)整，多國推動本土化生產(chǎn)，以減少對單一供應(yīng)商的依賴。

（4）AI和自動化技術(shù)提升光刻機(jī)銷量

隨著AI和自動化技術(shù)的進(jìn)步，光刻機(jī)的智能化程度不斷提高。這不僅提升了芯片制造的良率，也減少了對高技能工程師的依賴，使更多國家和企業(yè)能夠部署先進(jìn)光刻機(jī)，從而推動銷量增長。

5. 總結(jié)

全球光刻機(jī)市場在半導(dǎo)體行業(yè)的驅(qū)動下持續(xù)增長，ASML在高端市場占據(jù)主導(dǎo)地位，而尼康、佳能等公司則在中低端市場具有較強(qiáng)的競爭力。近年來，EUV光刻機(jī)的銷量雖然占比不高，但市場價值巨大，已成為行業(yè)關(guān)注的焦點(diǎn)。

隨著芯片制程技術(shù)的不斷演進(jìn)，EUV光刻機(jī)銷量將持續(xù)增長，而成熟工藝光刻機(jī)（如KrF、i-line）的市場也將保持穩(wěn)定。

總體而言，光刻機(jī)銷量的增長反映了全球半導(dǎo)體行業(yè)的繁榮，未來這一市場仍將保持強(qiáng)勁增長態(tài)勢。