SMEE光刻機(jī)是上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司研發(fā)生產(chǎn)的光刻設(shè)備。SMEE是“上海微電子”的英文縮寫。

光刻機(jī)是集成電路制造中最重要的設(shè)備之一，用于將圖形轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體晶圓上。光刻機(jī)的性能直接決定了集成電路的線寬、精度和產(chǎn)量。

SMEE光刻機(jī)主要有兩個(gè)系列：SSB500系列和SSX600系列。SSB500系列用于集成電路先進(jìn)封裝，SSX600系列用于集成電路前道制造。

SSB500系列光刻機(jī)

SSB500系列光刻機(jī)采用步進(jìn)投影技術(shù)，分辨率可達(dá)0.8~2μm。SSB500系列光刻機(jī)主要應(yīng)用于Flip Chip、Fan-In WLP、Fan-Out WLP和2.5D/3D等先進(jìn)封裝形式，可滿足Bumping、RDL和TSV等制程的晶圓級(jí)/方板級(jí)光刻工藝需求。

SSB500系列光刻機(jī)的核心技術(shù)包括：

高精度MVS對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)：MVS對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)采用多視點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)高精度、高重復(fù)性的對(duì)準(zhǔn)。

低畸變投影物鏡：投影物鏡采用先進(jìn)的光學(xué)設(shè)計(jì)技術(shù)，可有效降低光學(xué)畸變。

特征圖形標(biāo)記和光柵標(biāo)記：特征圖形標(biāo)記和光柵標(biāo)記可提高對(duì)準(zhǔn)精度和套刻精度。

SSX600系列光刻機(jī)

SSX600系列光刻機(jī)采用步進(jìn)掃描投影技術(shù)，分辨率可達(dá)90nm、110nm、280nm。SSX600系列光刻機(jī)主要用于集成電路前道制造，可滿足90nm、110nm、280nm關(guān)鍵層和非關(guān)鍵層的光刻工藝需求。

SSX600系列光刻機(jī)的核心技術(shù)包括：

四倍縮小倍率的投影物鏡：四倍縮小倍率的投影物鏡可提高光刻機(jī)的曝光效率。

工藝自適應(yīng)調(diào)焦調(diào)平技術(shù)：工藝自適應(yīng)調(diào)焦調(diào)平技術(shù)可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)調(diào)焦和調(diào)平，提高光刻機(jī)的自動(dòng)化程度。

高速高精的自減振六自由度工件臺(tái)掩模臺(tái)技術(shù)：高速高精的自減振六自由度工件臺(tái)掩模臺(tái)技術(shù)可提高光刻機(jī)的曝光精度。

SMEE光刻機(jī)的意義

SMEE光刻機(jī)的研發(fā)成功是我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的重要里程碑。SMEE光刻機(jī)填補(bǔ)了我國(guó)在高端光刻機(jī)領(lǐng)域的空白，標(biāo)志著我國(guó)在集成電路制造領(lǐng)域的技術(shù)水平有了重大突破。

SMEE光刻機(jī)的成功應(yīng)用將推動(dòng)我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展。SMEE光刻機(jī)可用于制造高性能、高集成度的集成電路，將廣泛應(yīng)用于人工智能、物聯(lián)網(wǎng)、自動(dòng)駕駛等領(lǐng)域。

SMEE光刻機(jī)的未來

SMEE光刻機(jī)仍在不斷發(fā)展。SMEE公司正在積極研發(fā)更高分辨率、更高產(chǎn)量的光刻機(jī)。SMEE公司還計(jì)劃與國(guó)內(nèi)外企業(yè)合作，建立光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟，共同推動(dòng)我國(guó)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。

SMEE光刻機(jī)的未來充滿了希望。隨著SMEE光刻機(jī)的不斷發(fā)展，我國(guó)將有望在高端光刻機(jī)領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)自主可控，為我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展提供有力保障。