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首頁 > 高精度單面光刻機(jī) > C33-300型6英寸光刻機(jī)
  • 產(chǎn)品名稱: C33-300型6英寸光刻機(jī)

  • 產(chǎn)品類型: 高精度單面光刻機(jī)

  • 產(chǎn)品型號:

  • 發(fā)布時間: 2024-07-31


產(chǎn)品描述


曝光方式

*光源:采用高強(qiáng)度LED燈。*曝光面積:100mm*100mm

*曝光不均勻性≤3%

*曝光強(qiáng)度≥40mW/cm2可調(diào)

*紫外光束角≤3°

*紫外光中心波長365nm、404nm、435nm可選

*紫外光源壽命:≥2萬小時

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主要性能指標(biāo)

主要性能指標(biāo):

(1)高均勻性LED曝光頭。

光強(qiáng)≤20mw;曝光面積:100mm×100mm

曝光不均勻性≤3%

曝光強(qiáng)度≥30mW/cm2可調(diào)

紫外光束角≤3°

紫外光中心波長365nm、404nm、435nm可選

紫外光源壽命:≥2萬小時

電子快門精準(zhǔn)控制

對準(zhǔn)精度1微米、曝光精度1微米、套刻精度1微米

(2)觀察系統(tǒng)為上下各兩個單筒顯微鏡上裝四個CCD攝像頭通過視屏線連接計(jì)算機(jī)到液晶顯視屏上。

a、單筒顯微鏡為0.7X~4.5X連續(xù)變倍顯微鏡;

b、CCD攝像機(jī)靶面對角線尺寸為:1/3″,6mm;

c、采用19″液晶監(jiān)視器,其數(shù)字放大倍率為19&pide;1/3=57倍;

d、觀察系統(tǒng)放大倍數(shù)為:0.7×57≈40倍(最小倍數(shù))

? ?4.5×57≈256(最大倍數(shù))或(91倍~570倍)

e、右表板上有一視屏轉(zhuǎn)換開關(guān):向左為下二個CCD,向右為上二個CCD。

? ? (3)計(jì)算機(jī)硬軟件系統(tǒng):

? ? ? a、鼠標(biāo)單擊“開始對準(zhǔn)”,能將監(jiān)視屏上的圖形記憶下來,并處理成透明的,以便對新進(jìn)入的圖形進(jìn)行對準(zhǔn);

? ? ? b、鼠標(biāo)雙擊左面或右面圖形,就分別全屏顯示左或右面圖形。

(4)非常特殊的板架裝置:

? a、該裝置能分別裝入152×152板架,對版進(jìn)行真空吸附;

? b、該裝置安裝在機(jī)座上,能圍繞A點(diǎn)作翻轉(zhuǎn)運(yùn)動,相對于承片臺而言作上下翻轉(zhuǎn)運(yùn)動,以便于上下版和上下片;

? c、該裝置來回反復(fù)翻轉(zhuǎn),回到承片臺上平面的位置,重復(fù)精度為≤±1.5μ;

? d、該裝置具有補(bǔ)償基片楔形誤差之功能,保證版下平面與片上平面之良好接觸,以便提高曝光質(zhì)量。

? ? ?(5)承片臺調(diào)整裝置:

a、配備有Φ75、Φ100承片臺各一個,這二種承片臺有二個長方孔,下面二個CCD通過該孔能觀察到版或片的下平面;

b、承片臺能作X、Y、Z、θ運(yùn)動,X、Y、Z可作±5mm運(yùn)動,θ運(yùn)動為±5°;

c、承片臺密著環(huán)相對于版,能實(shí)現(xiàn)“真空密著”:

真空密著力≤-0.05Mpa為硬接觸;

真空密著力≤-0.05Mpa~-0.02Mpa為軟接觸;

? ? ? ? ? ?真空密著力≤-0.02Mpa為微力接觸;

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安裝條件

1、安裝環(huán)境:

(1)建議室溫保持25℃±2℃。

(2)相對濕度≤60%。

(3)房間地面振幅≤0.004mn 。

(4)房間凈化到100級。

2、對掩版和片的要求:

版和片的厚度無特別要求,但版的外形尺寸、不平整度應(yīng)符合國家標(biāo)準(zhǔn)。片的外形尺寸、片的不平整度,特別是要進(jìn)行雙面光刻的片,其二面的光潔度和不平整都應(yīng)符合國家標(biāo)準(zhǔn)。

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尺寸和重量

尺寸:700(長)×700(寬)×960(高)

重量≤100kg

機(jī)體放在專用工作臺上

工作臺? 750(長)×720(寬)×640(高)? 高度可調(diào)范圍0~30mm

重量70kg (工作臺后側(cè)裝有電氣部分)總重量≤200kg

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機(jī)體放置換要求

機(jī)體放在專用工作臺上。

工作臺:1100 mm(長)×750 mm(寬)×645 mm(高)。

高度可調(diào)范圍0~30mm。

重量50Kg(工作臺后側(cè)裝有電氣部分)。

總重量≤200Kg

其他產(chǎn)品
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